地质科技情报2001,Vol.20Issue(4):77-82,6.
Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究
STUDY ON SCANNING ELECTRON MICROSCOPE OF Nb,Mo,Ti,Ta,W DOPING SILIC ATED GRAPHITE
葛学贵 1曹宏 1黄少云 2陈亦凡 1靳化才 1杨蜜纯1
作者信息
- 1. 中国地质大学材料科学与化学工程学院,
- 2. 武汉化工学院,
- 折叠
摘要
关键词
Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂/硅化石墨/扫描电子显微镜(SEM)分类
天文与地球科学引用本文复制引用
葛学贵,曹宏,黄少云,陈亦凡,靳化才,杨蜜纯..Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究[J].地质科技情报,2001,20(4):77-82,6.