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Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究

葛学贵 曹宏 黄少云 陈亦凡 靳化才 杨蜜纯

地质科技情报2001,Vol.20Issue(4):77-82,6.
地质科技情报2001,Vol.20Issue(4):77-82,6.

Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究

STUDY ON SCANNING ELECTRON MICROSCOPE OF Nb,Mo,Ti,Ta,W DOPING SILIC ATED GRAPHITE

葛学贵 1曹宏 1黄少云 2陈亦凡 1靳化才 1杨蜜纯1

作者信息

  • 1. 中国地质大学材料科学与化学工程学院,
  • 2. 武汉化工学院,
  • 折叠

摘要

关键词

Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂/硅化石墨/扫描电子显微镜(SEM)

分类

天文与地球科学

引用本文复制引用

葛学贵,曹宏,黄少云,陈亦凡,靳化才,杨蜜纯..Nb,Mo,Ti,Ta,W掺杂硅化石墨扫描电镜研究[J].地质科技情报,2001,20(4):77-82,6.

地质科技情报

OA北大核心CSCD

2096-8523

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