感光科学与光化学2000，Vol.18Issue(1)：77-84,8.
193-nm光刻中的光致抗蚀剂
Photoresist in 193-nm Photolithography
摘要
关键词
193-nm/化学增幅抗蚀剂/光刻/光敏产酸物分类
化学化工引用本文复制引用
陈明,陈其道,洪啸吟..193-nm光刻中的光致抗蚀剂[J].感光科学与光化学,2000,18(1):77-84,8.基金项目
国家自然科学基金资助项目(批准号:59773007) （批准号:59773007）
国家自然科学基金资助项目(批准号:59773007) （批准号:59773007）
