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SIMOX上分子束外延生长Si／Ge0.5Si0.5应变层超晶格的TEM研究

倪如山 朱文化 林成鲁

分析测试学报Issue(5)：80-82,3.
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分析测试学报Issue(5)：80-82,3.

SIMOX上分子束外延生长Si／Ge0.5Si0.5应变层超晶格的TEM研究

倪如山 1朱文化 1林成鲁1

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摘要

关键词

氧注入隔离/分子束外延/硅/SLS/TEM

分类

化学化工

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倪如山,朱文化,林成鲁..SIMOX上分子束外延生长Si／Ge0.5Si0.5应变层超晶格的TEM研究[J].分析测试学报,1994,(5):80-82,3.

分析测试学报

OA北大核心

1004-4957

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