电子学报2000，Vol.28Issue(5)：80-83,74,5.
TDDB击穿特性评估薄介质层质量
Quality Evaluation of Thin Dielectric Film by TDDB Measurements
胡恒升 1张敏 1林立谨1
作者信息
- 1. 中国科学院上海冶金研究所微电子学分部,上海,200233
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摘要
关键词
薄介质层/质量评估/与时间相关电介质击穿/击穿电量分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
胡恒升,张敏,林立谨..TDDB击穿特性评估薄介质层质量[J].电子学报,2000,28(5):80-83,74,5.
