福州大学学报（自然科学版）2007，Vol.35Issue(z1)：8-10,3.
不同工作压强下ICP刻蚀对SiC表面损伤的研究
Surface damage of inductively coupled plasma etched SiC on different work pressure
吕英 1庞爱锁 1杨伟锋 1陈厦平 1朱会丽 1吴正云1
作者信息
- 1. 厦门大学物理系,福建,厦门,361005
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摘要
关键词
SiC/ICP刻蚀/工作压强/表面损伤分类
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吕英,庞爱锁,杨伟锋,陈厦平,朱会丽,吴正云..不同工作压强下ICP刻蚀对SiC表面损伤的研究[J].福州大学学报（自然科学版）,2007,35(z1):8-10,3.
