红外技术2002，Vol.24Issue(6)：8-13,36,7.
光刻技术的现状和发展
The status and development of lithography technology
姜军 1周芳 1曾俊英 1杨铁锋1
作者信息
- 1. 昆明物理研究所,云南,昆明,650223
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摘要
关键词
光刻/涂胶/光刻机/分辨率/光刻胶/曝光分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
姜军,周芳,曾俊英,杨铁锋..光刻技术的现状和发展[J].红外技术,2002,24(6):8-13,36,7.
