人工晶体学报2007，Vol.36Issue(4)：828-831,4.
等离子体还原SiCl4一步法制备多晶硅实验研究
Silicon Tetrachloride Direct Reduction to Polysilicon in the Plasma System
冉祎 1兰天石 1覃攀 1戴晓雁 1印永祥1
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摘要
关键词
多晶硅/等离子体/四氯化硅/一步法/西门子法分类
数理科学引用本文复制引用
冉祎,兰天石,覃攀,戴晓雁,印永祥..等离子体还原SiCl4一步法制备多晶硅实验研究[J].人工晶体学报,2007,36(4):828-831,4.
