| 注册
首页|期刊导航|武汉工程大学学报|基片温度对金刚石厚膜生长的影响

基片温度对金刚石厚膜生长的影响

熊礼威 汪建华 满卫东 曹菊琴 谢鹏

武汉工程大学学报2008,Vol.30Issue(1):83-86,4.
武汉工程大学学报2008,Vol.30Issue(1):83-86,4.

基片温度对金刚石厚膜生长的影响

Study on the influence of growth temperature on the deposition of diamond thick films by MPCVD

熊礼威 1汪建华 1满卫东 1曹菊琴 1谢鹏1

作者信息

  • 1. 武汉工程大学湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北,武汉,430074
  • 折叠

摘要

关键词

化学气相沉积/金刚石厚膜/微波等离子体

分类

数理科学

引用本文复制引用

熊礼威,汪建华,满卫东,曹菊琴,谢鹏..基片温度对金刚石厚膜生长的影响[J].武汉工程大学学报,2008,30(1):83-86,4.

基金项目

湖北省科技攻关计划(2002AA105A02),湖北省高等学校优秀中青年科技创新团队资助计划项目 (2002AA105A02)

武汉工程大学学报

OACSTPCD

1674-2869

访问量2
|
下载量0
段落导航相关论文