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超分辨近场结构之纳米光刻技术

王沛 张斗国 唐麟 鲁拥华 焦小瑾 明海

量子电子学报2005,Vol.22Issue(6):840-843,4.
量子电子学报2005,Vol.22Issue(6):840-843,4.

超分辨近场结构之纳米光刻技术

Nano-photolithography using super-resolution near-field structure

王沛 1张斗国 1唐麟 1鲁拥华 1焦小瑾 1明海1

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学物理系,安徽,合肥,230026
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摘要

关键词

近场光学/超分辨近场结构/纳米光刻/局域表面等离子体效应

分类

数理科学

引用本文复制引用

王沛,张斗国,唐麟,鲁拥华,焦小瑾,明海..超分辨近场结构之纳米光刻技术[J].量子电子学报,2005,22(6):840-843,4.

基金项目

国家自然科学基金(90206002)、国家863(2002AA313030)、安徽省自然科学基金(03046204)资助项目 (90206002)

量子电子学报

OA北大核心CSCD

1007-5461

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