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电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响

王英剑 李庆国 范正修

强激光与粒子束2003,Vol.15Issue(9):841-844,4.
强激光与粒子束2003,Vol.15Issue(9):841-844,4.

电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响

Property comparison of optical thin films prepared by E-beam, ion assisted deposition and ion beam sputtering

王英剑 1李庆国 1范正修1

作者信息

  • 1. 中国科学院,上海光学精密机械研究所,上海,201800
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摘要

关键词

电子束/离子辅助/离子束溅射/薄膜特性

分类

数理科学

引用本文复制引用

王英剑,李庆国,范正修..电子束、离子辅助和离子束溅射三种工艺对光学薄膜性能的影响[J].强激光与粒子束,2003,15(9):841-844,4.

基金项目

国家863计划项目资助课题 ()

强激光与粒子束

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4322

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