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RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性

文军 陈长乐

发光学报2008,Vol.29Issue(5):856-860,5.
发光学报2008,Vol.29Issue(5):856-860,5.

RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性

Structural and Photoluminescence Properties of Nd-doped ZnO Thin Films Grown by RF Magnetron Sputtering

文军 1陈长乐2

作者信息

  • 1. 西北工业大学,应用物理系,陕西,西安,710072
  • 2. 渭南师范学院,物理系,陕西,渭南,714000
  • 折叠

摘要

关键词

Nd掺杂/ZnO薄膜/射频磁控溅射/光致发光

分类

数理科学

引用本文复制引用

文军,陈长乐..RF溅射钕掺杂ZnO薄膜的结构与发光特性[J].发光学报,2008,29(5):856-860,5.

基金项目

国家自然科学基金重点(50331040) (50331040)

陕西省教育厅科研计划(08JK287)资助项目 (08JK287)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

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