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脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用

吴卫东 许华 魏胜 唐永建 陈正豪

强激光与粒子束2002，Vol.14Issue(6)：873-876,4.
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强激光与粒子束2002，Vol.14Issue(6)：873-876,4.

脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用

Pulse laser vapor deposition technology and its application in fabrication of the ICF film-targets

吴卫东 1许华 1魏胜 1唐永建 1陈正豪1

作者信息

  • 1. 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
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摘要

关键词

脉冲激光气相沉积/ICF/靶制备

分类

能源科技

引用本文复制引用

吴卫东,许华,魏胜,唐永建,陈正豪..脉冲激光气相沉积技术及其在ICF薄膜靶制备中的应用[J].强激光与粒子束,2002,14(6):873-876,4.

基金项目

国家863惯性约束聚变领域资助课题 （）

强激光与粒子束

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4322

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