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平面磁控溅射薄膜厚度分布模拟

宋建全 刘正堂 于忠奇 耿东生 郑修麟

机械科学与技术2001,Vol.20Issue(6):884-885,2.
机械科学与技术2001,Vol.20Issue(6):884-885,2.

平面磁控溅射薄膜厚度分布模拟

Film Thickness Distribution Simulation of Planar Magnetron Sputtering

宋建全 1刘正堂 1于忠奇 1耿东生 1郑修麟1

作者信息

  • 1. 西北工业大学,
  • 折叠

摘要

关键词

磁控溅射/膜厚分布/计算机模拟

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

宋建全,刘正堂,于忠奇,耿东生,郑修麟..平面磁控溅射薄膜厚度分布模拟[J].机械科学与技术,2001,20(6):884-885,2.

基金项目

国防"九五”预研 ()

机械科学与技术

OA北大核心CSCD

1003-8728

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