无机材料学报2002，Vol.17Issue(4)：887-890,4.
等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究
Al2O3 Films Deposited by Plasma Source Enhanced Magnetron Sputtering
摘要
关键词
氧化铝薄膜/等离子体源/磁控溅射沉积/折射率分类
数理科学引用本文复制引用
雷明凯,袁力江,张仲麟..等离子体源增强磁控溅射沉积Al2O3薄膜研究[J].无机材料学报,2002,17(4):887-890,4.基金项目
国家自然科学基金(69889701) （69889701）
教育部科学技术研究重点项目 （）
