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射频磁控溅射工艺制备二氧化钒薄膜

唐振方 赵健 卫红 张正法

人工晶体学报2008，Vol.37Issue(1)：88-92,5.
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人工晶体学报2008，Vol.37Issue(1)：88-92,5.

射频磁控溅射工艺制备二氧化钒薄膜

Preparation of Vanadium Dioxide Thin Film by RF Magnetron Sputtering Method

唐振方 1赵健 1卫红 2张正法1

作者信息

  • 1. 暨南大学物理系,广州,510632
  • 2. 广州市光机电工程研究开发中心,广州,510635
  • 折叠

摘要

关键词

VO2薄膜/射频磁控溅射/退火/制备工艺

分类

数理科学

引用本文复制引用

唐振方,赵健,卫红,张正法..射频磁控溅射工艺制备二氧化钒薄膜[J].人工晶体学报,2008,37(1):88-92,5.

基金项目

广东省科技攻关计划项目(2006B13301006) （2006B13301006）

人工晶体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-985X

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