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纯化器对VHF-PECVD制备的不同结构硅薄膜特性的影响

张晓丹赵颖朱锋魏长春高艳涛孙建侯国付薛俊明张德坤任慧志耿新华熊绍珍

人工晶体学报2004，Vol.33Issue(6)：892-897,6.

Effect of Purifier on Silicon Thin Films with Different Structures Deposited by VHF-PECVD

张晓丹 ¹赵颖 ¹朱锋 ¹魏长春 ¹高艳涛 ¹孙建 ¹侯国付 ¹薛俊明 ¹张德坤 ¹任慧志 ¹耿新华 ¹熊绍珍¹

作者信息

1. 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,南开大学光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,光电信息技术科学教育部重点实验室(南开大学,天津大学),天津,300071
折叠

甚高频等离子体增强化学气相沉积/纯化器/硅薄膜

能源科技

张晓丹,赵颖,朱锋,魏长春,高艳涛,孙建,侯国付,薛俊明,张德坤,任慧志,耿新华,熊绍珍..纯化器对VHF-PECVD制备的不同结构硅薄膜特性的影响[J].人工晶体学报,2004,33(6):892-897,6.

国家"973"重大基础研究项目(No.G2000028202,G2000028203) （No.G2000028202,G2000028203）

教育部重大项目(No.02167)和"863"重大项目(No.2002303261) 资助（No.02167）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1000-985X

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