|国家科技期刊平台
| 注册
首页|期刊导航|强激光与粒子束|氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响及有限元分析

氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响及有限元分析

张丽莎 许鸿

强激光与粒子束2008，Vol.20Issue(6)：894-898,5.
✕
强激光与粒子束2008，Vol.20Issue(6)：894-898,5.

氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响及有限元分析

Influence of oxygen partial pressure on HfO2 residual stresses and its finite element analysis

张丽莎 1许鸿2

作者信息

  • 1. 中国科学院,光电技术研究所,成都,610209
  • 2. 中国科学院,研究生院,北京,100039
  • 折叠

摘要

关键词

电子束蒸发/HfO2薄膜/残余应力/氧分压/有限元分析

分类

数理科学

引用本文复制引用

张丽莎,许鸿..氧分压对HfO2薄膜残余应力的影响及有限元分析[J].强激光与粒子束,2008,20(6):894-898,5.

基金项目

国家高技术发展计划项目 （）

强激光与粒子束

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4322

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文