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一种利用PDMS工艺解决SU-8去胶问题的方法

李建华 陈迪 张金娅 刘景全 朱军

半导体学报2005,Vol.26Issue(5):899-903,5.
半导体学报2005,Vol.26Issue(5):899-903,5.

一种利用PDMS工艺解决SU-8去胶问题的方法

An Alternative Method for SU-8 Removal Using PDMS Technique

李建华 1陈迪 1张金娅 1刘景全 1朱军1

作者信息

  • 1. 上海交通大学微纳米科学技术研究院,薄膜与微细技术教育部重点实验室微米纳米加工技术国家重点实验室,上海,200030
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摘要

Abstract

An alternative method for SU-8 removal is proposed. Instead of directly using SU-8 microstructure as the electroplating mold, a polydimethysiloxane (PDMS) replica is employed. The metallic micromold insert obtained through this method can be easily peeled off from the PDMS replica,meanwhile with high resolution and smooth surfaces.

关键词

SU-8去胶/电铸/PDMS/金属模具/高深宽比微结构

Key words

SU-8 removal/electroplating/PDMS/micromold insert/high-aspect-ratio microstructures

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

李建华,陈迪,张金娅,刘景全,朱军..一种利用PDMS工艺解决SU-8去胶问题的方法[J].半导体学报,2005,26(5):899-903,5.

基金项目

国家高技术研究发展计划资助项目(批准号:200211404150) (批准号:200211404150)

半导体学报

OA北大核心CSCD

1674-4926

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