无机材料学报2004，Vol.19Issue(4)：907-911,5.
HWP-CVD氮化硅薄膜的结构和光学特性
Microstructure and Optical Properties of Hydrogenated Amorphous Silicon Nitride Films Deposited by Helicon Wave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition
摘要
关键词
氮化硅薄膜/光学特性/螺旋波等离子体增强化学气相沉积分类
数理科学引用本文复制引用
于威,侯海虹,何杰,王华英,傅广生..HWP-CVD氮化硅薄膜的结构和光学特性[J].无机材料学报,2004,19(4):907-911,5.基金项目
河北省自然科学基金(500084) （500084）
