射频溅射FeTaN纳米晶软磁薄膜结构和磁性OA北大核心CSCDCSTPCD
Microstrucrure and magnetic properties of RF-sputtered nanocrystalline FeTaN soft magnetic thin films
用射频反应溅射制备了FeTaN纳米晶软磁薄膜.研究了薄膜结构和磁性与制备条件的依赖关系.研究发现,当Ta的含量较高时,在N2+Ar混合气氛中易形成沉积态薄膜的非晶结构.适当的热处理后,α-Fe纳米晶从中晶化生成.薄膜显示出优良的软磁特性.
郑代顺;谢天;白建民;魏福林;杨正
兰州大学磁性材料研究所,兰州,730000兰州大学磁性材料研究所,兰州,730000兰州大学磁性材料研究所,兰州,730000兰州大学磁性材料研究所,兰州,730000兰州大学磁性材料研究所,兰州,730000
数理科学
纳米晶软磁性非晶态
《物理学报》 2002 (4)
908-912,5
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