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浮栅隧道氧化层EEPROM中浮栅上电荷泄漏研究

于宗光 陆锋 徐征 叶守银 黄卫 王万业 许居衍

电子学报2000,Vol.28Issue(5):90-91,70,95,4.
电子学报2000,Vol.28Issue(5):90-91,70,95,4.

浮栅隧道氧化层EEPROM中浮栅上电荷泄漏研究

The Study for Charge Leakage on The Floating-gate of FLOTOX EEPROM

于宗光 1陆锋 1徐征 1叶守银 1黄卫 1王万业 1许居衍1

作者信息

  • 1. 信息产业部微电子科研中心,无锡,214035
  • 折叠

摘要

关键词

EEPROM/浮栅/隧道氧化层/电荷/泄漏

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

于宗光,陆锋,徐征,叶守银,黄卫,王万业,许居衍..浮栅隧道氧化层EEPROM中浮栅上电荷泄漏研究[J].电子学报,2000,28(5):90-91,70,95,4.

基金项目

江苏省青年科技基金(No.BQ96040)资助课题 (No.BQ96040)

电子学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0372-2112

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