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工艺公差对阵列波导光栅波分复用器性能的影响

秦政坤 马春生 李德禄 张海明 张大明 刘式墉

半导体学报2006，Vol.27Issue(5)：926-931,6.
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半导体学报2006，Vol.27Issue(5)：926-931,6.

工艺公差对阵列波导光栅波分复用器性能的影响

Effect of Manufacturing Tolerances on Characteristics of Arrayed Waveguide Grating Multiplexers

秦政坤 1马春生 2李德禄 1张海明 1张大明 1刘式墉1

作者信息

  • 1. 吉林大学电子科学与工程学院,集成光电子学国家重点联合实验室,长春,130012
  • 2. 吉林师范大学,四平,136000
  • 折叠

摘要

关键词

阵列波导光栅/波分复用器/工艺公差/传输光谱/串扰

分类

信息技术与安全科学

引用本文复制引用

秦政坤,马春生,李德禄,张海明,张大明,刘式墉..工艺公差对阵列波导光栅波分复用器性能的影响[J].半导体学报,2006,27(5):926-931,6.

基金项目

国家自然科学基金资助项目(批准号:60576045) （批准号:60576045）

半导体学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1674-4926

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