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钇改性PZT薄膜的极化印刻研究

仇萍荪 罗维根 丁爱丽

无机材料学报2001,Vol.16Issue(5):928-932,5.
无机材料学报2001,Vol.16Issue(5):928-932,5.

钇改性PZT薄膜的极化印刻研究

Imprint Properties of Yttrium Modified PZT Thin Films

仇萍荪 1罗维根 1丁爱丽1

作者信息

  • 1. 中国科学院上海硅酸盐研究所
  • 折叠

摘要

关键词

铁电薄膜/Y-PZT薄膜/印刻(imprinting)

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

仇萍荪,罗维根,丁爱丽..钇改性PZT薄膜的极化印刻研究[J].无机材料学报,2001,16(5):928-932,5.

无机材料学报

OA北大核心CSCDSCI

1000-324X

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