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钴/玻碳离子注入修饰电极伏安法测定呋喃妥因的研究

谭学才 邱建丁 李荫 邹小勇 蔡沛祥

分析化学2004,Vol.32Issue(7):930-934,5.
分析化学2004,Vol.32Issue(7):930-934,5.

钴/玻碳离子注入修饰电极伏安法测定呋喃妥因的研究

Determination of Nitrofurantoin and Its Electrochemical Behavior at Cobalt Ion Implantation Modified Glassy Carbon Electrode

谭学才 1邱建丁 2李荫 1邹小勇 1蔡沛祥1

作者信息

  • 1. 中山大学化学与化学工程学院,广州,510275
  • 2. 广西民族学院化学与生态工程学院,南宁,530006
  • 折叠

摘要

关键词

Co/GC离子注入修饰电极/呋喃妥因/吸附溶出伏安法

分类

医药卫生

引用本文复制引用

谭学才,邱建丁,李荫,邹小勇,蔡沛祥..钴/玻碳离子注入修饰电极伏安法测定呋喃妥因的研究[J].分析化学,2004,32(7):930-934,5.

基金项目

本文系广东省自然科学基金(No.011105, 031577)、广西壮族自治区自然科学基金(No.0141037,0342018)及广西民族学院引进人才启动基金(No.OHHX00002)资助项目 (No.011105, 031577)

分析化学

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

0253-3820

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