高校化学工程学报2006，Vol.20Issue(6)：932-937,6.
掺硼浓度对金刚石薄膜电极电化学性能影响的研究
The Influences of Boron-doping Concentration on the Electrochemical Properties of Diamond Film Electrode
摘要
关键词
金刚石薄膜电极/硼掺杂/循环伏安法/交流阻抗法分类
化学化工引用本文复制引用
胡晓君,曹华珍,郑国渠,曹帅..掺硼浓度对金刚石薄膜电极电化学性能影响的研究[J].高校化学工程学报,2006,20(6):932-937,6.基金项目
浙江省教育厅资助课题(D1015227). （D1015227）
