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相变域硅薄膜材料的光稳定性

王岩韩晓艳任慧志侯国付郭群超朱锋张德坤孙建薛俊明赵颖耿新华

物理学报2006，Vol.55Issue(2)：947-951,5.

相变域硅薄膜材料的光稳定性

Stability of mixed phase silicon thin film material under light soaking

王岩 ¹韩晓艳 ¹任慧志 ²侯国付 ¹郭群超 ¹朱锋 ¹张德坤 ¹孙建 ¹薛俊明 ¹赵颖 ¹耿新华¹

作者信息

1. 南开大学光电子薄膜器件与技术研究所,光电信息技术科学教育部重点实验室,光电子薄膜器件与技术天津市重点实验室,天津,300071
2. 河北工业大学材料科学与工程学院,天津,300130
折叠

摘要

关键词

射频等离子体增强化学气相沉积/硅薄膜/Staebler-Wronski(SW)效应/稳定性

分类

数理科学

引用本文复制引用

王岩,韩晓艳,任慧志,侯国付,郭群超,朱锋,张德坤,孙建,薛俊明,赵颖,耿新华..相变域硅薄膜材料的光稳定性[J].物理学报,2006,55(2):947-951,5.

基金项目

国家重点基础研究发展规划(批准号:G2000028202,G2000028203)、科技部国际合作项目(批准号:2002DFG0051)、天津市国际合作项目(批准号:023100711)和天津市科技攻关项目(批准号:043186511)资助的课题. （批准号:G2000028202,G2000028203）

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

ISSN：1000-3290

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