半导体学报2005，Vol.26Issue(z1)：94-97,4.
低能离子束方法制备Mn-Si薄膜
Mn-Si Films Fabricated by Low Energy Ion Beam Deposition
摘要
关键词
低能离子束/硅/锰/X射线衍射分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
刘力锋,陈诺夫,柴春林,杨少延,刘志凯..低能离子束方法制备Mn-Si薄膜[J].半导体学报,2005,26(z1):94-97,4.基金项目
国家自然科学基金(批准号:60176001和60390072),国家重大基础研究发展计划(批准号:G20000365和G2002CB311905)资助项目 （批准号:60176001和60390072）
