| 注册
首页|期刊导航|发光学报|脉冲激光沉积(PLD)法生长高质量ZnO薄膜及其发光性能

脉冲激光沉积(PLD)法生长高质量ZnO薄膜及其发光性能

边继明 杜国同 胡礼中 李效民 赵俊亮

发光学报2006,Vol.27Issue(6):958-962,5.
发光学报2006,Vol.27Issue(6):958-962,5.

脉冲激光沉积(PLD)法生长高质量ZnO薄膜及其发光性能

Growth and Photoluminescence Characteristics of High Quality ZnO Films by Pulsed Laser Deposition (PLD) Method

边继明 1杜国同 1胡礼中 2李效民 1赵俊亮3

作者信息

  • 1. 大连理工大学物理系,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024
  • 2. 吉林大学电子科学与工程学院,集成光电子国家重点实验室,吉林,长春,130023
  • 3. 中国科学院上海硅酸盐研究所,高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050
  • 折叠

摘要

关键词

ZnO薄膜/脉冲激光沉积/光致发光

分类

数理科学

引用本文复制引用

边继明,杜国同,胡礼中,李效民,赵俊亮..脉冲激光沉积(PLD)法生长高质量ZnO薄膜及其发光性能[J].发光学报,2006,27(6):958-962,5.

基金项目

大连理工大学优秀青年教师培养基金资助项目(2005) (2005)

发光学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-7032

访问量0
|
下载量0
段落导航相关论文