脉冲激光沉积(PLD)法生长高质量ZnO薄膜及其发光性能OA北大核心CSCDCSTPCD
Growth and Photoluminescence Characteristics of High Quality ZnO Films by Pulsed Laser Deposition (PLD) Method
采用脉冲激光沉积(PLD)法在单晶Si(100)衬底上生长ZnO薄膜,以X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和透射电镜(TEM)等手段分析了所得ZnO薄膜的晶体结构和微观形貌.优化工艺(700 ℃,20 Pa)下生长的ZnO薄膜呈c轴高度择优取向,柱状晶垂直衬底表面生长,结构致密均匀.室温光致发光(PL)谱分析结果表明,随着薄膜生长时O2分压的增大,近带边紫外发光峰与深能级发光峰之比显著增强,表明薄膜的结晶性能和化学计量比都有了很大的改善…查看全部>>
边继明;杜国同;胡礼中;李效民;赵俊亮
大连理工大学物理系,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024大连理工大学物理系,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024吉林大学电子科学与工程学院,集成光电子国家重点实验室,吉林,长春,130023大连理工大学物理系,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024中国科学院上海硅酸盐研究所,高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050
数理科学
ZnO薄膜脉冲激光沉积光致发光
《发光学报》 2006 (6)
958-962,5
大连理工大学优秀青年教师培养基金资助项目(2005)
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