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0.5微米LDD PMOS工艺研究

余山 章定康 黄敞

电子学报Issue(2)：96,1.
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电子学报Issue(2)：96,1.

0.5微米LDD PMOS工艺研究

余山 1章定康 1黄敞1

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余山,章定康,黄敞..0.5微米LDD PMOS工艺研究[J].电子学报,1994,(2):96,1.

基金项目

国家重点实验室项目资助 （）

电子学报

OA北大核心CSCD

0372-2112

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