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溅射功率对直流磁控溅射Ti膜结构的影响

程丙勋 吴卫东 何智兵 许华 唐永建 卢铁城

强激光与粒子束2006，Vol.18Issue(6)：961-964,4.
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强激光与粒子束2006，Vol.18Issue(6)：961-964,4.

溅射功率对直流磁控溅射Ti膜结构的影响

Effects of sputtering power on structure and properties of Ti films deposited by DC magnetron sputtering

程丙勋 1吴卫东 2何智兵 2许华 2唐永建 2卢铁城2

作者信息

  • 1. 四川大学,物理系,辐射物理及技术教育部重点实验室,成都,610064
  • 2. 中国工程物理研究院,激光聚变研究中心,四川,绵阳,621900
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摘要

关键词

应力/六方晶型/直流磁控溅射/Ti膜/直流磁控溅射

分类

数理科学

引用本文复制引用

程丙勋,吴卫东,何智兵,许华,唐永建,卢铁城..溅射功率对直流磁控溅射Ti膜结构的影响[J].强激光与粒子束,2006,18(6):961-964,4.

基金项目

国家863计划项目资助课题 （）

强激光与粒子束

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4322

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