恒电压沉积SmS光学薄膜OA北大核心CSCDCSTPCD
SmS Optical Thin Films Prepared by Electrodeposition Process with Constant Voltage
以SmCl3·6H2O和Na2S2O3·5H2O为原料,采用电沉积法在ITO玻璃基板制备了SmS光学薄膜.采用XRD、AFM和紫外可见光分光光度计对薄膜进行了表征.研究了沉积电压和热处理温度对于薄膜的物相组成、显微结构和光学性能的影响.结果表明:在n(S):n(Sm)=4:1,溶液pH值为3.0,沉积电压为10 V以及热处理温度为400℃的条件下,可制备出主晶相为SmS且表面比较平整的薄膜.热处理后薄膜的禁带宽度增加.随着沉积电压的增加,S…查看全部>>
曹丽云;黄剑锋;马小波;贺海燕;吴建鹏
陕西科技大学材料科学与工程学院,西安,710021陕西科技大学材料科学与工程学院,西安,710021陕西科技大学材料科学与工程学院,西安,710021陕西科技大学材料科学与工程学院,西安,710021陕西科技大学材料科学与工程学院,西安,710021
数理科学
SmS光学薄膜恒电压
《人工晶体学报》 2008 (4)
962-966,5
教育部新世纪优秀人才支持计划(No.NCET-06-0893)
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