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PECVD低温制备微晶硅薄膜的研究

马康王海燕吴芳卢景霄郜小勇陈永生

人工晶体学报2008，Vol.37Issue(1)：97-101,5.

Study on the Microcrystalline Silicon Films by PECVD at Low Temperature

马康 ¹王海燕 ¹吴芳 ¹卢景霄 ¹郜小勇 ¹陈永生¹

作者信息

PECVD/微晶硅薄膜/晶化率/生长机制

数理科学

马康,王海燕,吴芳,卢景霄,郜小勇,陈永生..PECVD低温制备微晶硅薄膜的研究[J].人工晶体学报,2008,37(1):97-101,5.

国家重点基础研究发展规划(973)项目(No.2006GB202601) （973）

OA北大核心CSCDCSTPCD

ISSN：1000-985X

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