现代科学仪器Issue(4)：97-101,5.
中频磁控溅射周期性变电流(Ti,Al)N多层薄膜的结构与性能
Microstructure and Properties in(Ti,AI)N Multilayer Films Deposited by MF-Magnetron Sputtering on Periodical Target Current Condition
罗庆洪 1孙丽丽 1杨会生 1王燕斌 1陆永浩 1于栋利2
作者信息
- 1. 北京科技大学材料物理与化学系,北京,100083
- 2. 燕山大学材料科学与工程学院,河北,066004
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摘要
关键词
显微结构/中频反应磁控溅射/(Ti/Al)N多层薄膜分类
矿业与冶金引用本文复制引用
罗庆洪,孙丽丽,杨会生,王燕斌,陆永浩,于栋利..中频磁控溅射周期性变电流(Ti,Al)N多层薄膜的结构与性能[J].现代科学仪器,2008,(4):97-101,5.
