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磁控溅射制备的铜钒氧化物薄膜及其电化学性能

张梁堂 宋杰 蔡敏真 徐富春 吴孙桃 董全峰

高等学校化学学报2009，Vol.30Issue(5)：971-975,5.
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高等学校化学学报2009，Vol.30Issue(5)：971-975,5.

磁控溅射制备的铜钒氧化物薄膜及其电化学性能

Structure and Electrochemical Performance of Copper Doped Vanadium Oxide Thin Films Deposited by RF Magnetron Sputtering

张梁堂 1宋杰 2蔡敏真 3徐富春 4吴孙桃 5董全峰2

作者信息

  • 1. 厦门大学物理与机电工程学院机电工程系,厦门,361005
  • 2. 厦门大学物理与机电工程学院,化学化工学院化学系,厦门,361005
  • 3. 厦门大学物理与机电工程学院,物理与机电工程学院物理系,厦门,361005
  • 4. 厦门大学物理与机电工程学院,化学化工学院分析测试中心,厦门,361005
  • 5. 厦门大学物理与机电工程学院,萨本栋微机电研究中心,厦门,361005
  • 折叠

摘要

关键词

铜钒氧化物薄膜/磁控溅射/阴极材料/电化学性能

分类

化学化工

引用本文复制引用

张梁堂,宋杰,蔡敏真,徐富春,吴孙桃,董全峰..磁控溅射制备的铜钒氧化物薄膜及其电化学性能[J].高等学校化学学报,2009,30(5):971-975,5.

基金项目

国家"九七三"计划(批准号:2002CB211807)、国防基础研究项目(原国防科工委)(批准号:A14220080188-08)和福建省化学电源科技创新平台(批准号:2006H0090)资助. （批准号:2002CB211807）

高等学校化学学报

OA北大核心CSCDCSTPCD

0251-0790

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