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室温溅射沉积ZnO:Al薄膜的工艺

黄佳木 董建华 张兴元

重庆大学学报(自然科学版)2004,Vol.27Issue(4):97-99,3.
重庆大学学报(自然科学版)2004,Vol.27Issue(4):97-99,3.

室温溅射沉积ZnO:Al薄膜的工艺

ZnO:Al Films Prepared by RF Magnetron Sputtering at Room Temperature

黄佳木 1董建华 1张兴元1

作者信息

  • 1. 重庆大学,材料科学与工程学院,重庆,400030
  • 折叠

摘要

关键词

ZnO:Al薄膜/磁控溅射/光电特性

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

黄佳木,董建华,张兴元..室温溅射沉积ZnO:Al薄膜的工艺[J].重庆大学学报(自然科学版),2004,27(4):97-99,3.

基金项目

重庆市科委攻关项目资助(2000-6214) (2000-6214)

重庆大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSCDCSTPCD

1000-582X

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