半导体学报2004，Vol.25Issue(8)：981-985,5.
微波等离子体退火制备CoSi2薄膜
Preparation of CoSi2 Thin Film by Microwave Plasma Annealing
摘要
关键词
金属硅化物/钴/固相反应/微波等离子体分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
欧阳斯可,汪涛,戴永兵,吴建生,何贤昶,沈荷生..微波等离子体退火制备CoSi2薄膜[J].半导体学报,2004,25(8):981-985,5.基金项目
国家自然科学基金资助项目(批准号:50131030) （批准号:50131030）
