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镓铝双质掺杂提高晶闸管性能的机理研究

王公堂 刘秀喜

物理学报2010,Vol.59Issue(3):1964-1969,6.
物理学报2010,Vol.59Issue(3):1964-1969,6.

镓铝双质掺杂提高晶闸管性能的机理研究

Studies on the mechanisms of enhancing the performances of thyristors by Ga-Al doping

王公堂 1刘秀喜1

作者信息

  • 1. 山东师范大学物理与电子科学学院,济南,250014
  • 折叠

摘要

关键词

镓铝双质掺杂/机理/晶闸管/性能

Key words

Ga-Al double-impurity doping/mechanism/thyristor/quality

引用本文复制引用

王公堂,刘秀喜..镓铝双质掺杂提高晶闸管性能的机理研究[J].物理学报,2010,59(3):1964-1969,6.

基金项目

山东省自然科学基金(批准号:Y2003A01)资助的课题. (批准号:Y2003A01)

物理学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-3290

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