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反应磁控溅射碳化铪薄膜的微结构与力学性能

许辉 祝新发 张晶晶 周颐辛 李冠群 李戈扬

表面技术2010，Vol.39Issue(1)：5-8,4.
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表面技术2010，Vol.39Issue(1)：5-8,4.

反应磁控溅射碳化铪薄膜的微结构与力学性能

Microstructure and Mechanical Properties of Hafnium Carbide Coatings Synthesized by Reactive Magnetron Sputtering

许辉 1祝新发 1张晶晶 1周颐辛 1李冠群 2李戈扬2

作者信息

  • 1. 上海工具厂有限公司,机械工业工具涂层技术重点实验室,上海,200093
  • 2. 上海交通大学,金属基复合材料国家重点实验室,上海,200030
  • 折叠

摘要

关键词

碳化铪/硬质薄膜/微结构/力学性能/磁控溅射

Key words

Hafnium carbide/Hard coatings/Microstructure/Mechanical properties/Magnetron sputtering

分类

矿业与冶金

引用本文复制引用

许辉,祝新发,张晶晶,周颐辛,李冠群,李戈扬..反应磁控溅射碳化铪薄膜的微结构与力学性能[J].表面技术,2010,39(1):5-8,4.

基金项目

国家科技支撑项目(2008BAF32B06) （2008BAF32B06）

表面技术

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-3660

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