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溅射辅助微波等离子体化学气相沉积SiCN晶体

万军 马志斌 曹宏 吴振辉 汪建华

新型炭材料Issue(1):48-52,5.
新型炭材料Issue(1):48-52,5.

溅射辅助微波等离子体化学气相沉积SiCN晶体

Preparation of SiCN crystals using microwave plasma CVD assisted by pulsed nitrogen ion beam sputtering

万军 1马志斌 1曹宏 1吴振辉 1汪建华1

作者信息

  • 1. 武汉工程大学材料科学与工程学院,湖北省等离子体化学与新材料重点实验室,湖北,武汉,430073
  • 折叠

摘要

关键词

SiCN晶体/微波等离子体/溅射/二氰二氨

Key words

Silicon carbon nitride/Microwave plasma/Sputtering/Dicyandiamide target

分类

数理科学

引用本文复制引用

万军,马志斌,曹宏,吴振辉,汪建华..溅射辅助微波等离子体化学气相沉积SiCN晶体[J].新型炭材料,2010,(1):48-52,5.

基金项目

湖北省自然科学基金(2005ABA023). (2005ABA023)

新型炭材料

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1007-8827

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