真空电子技术Issue(6)：60-62,3.
近贴聚焦成像器件光电阴极传递封接工艺研究
The Research of Photoelectric Cathode Transferred and Sealed Technology of Proximity Focused and Imaged Devices
程耀进 1徐江涛 1徐珂 1侯志鹏 1师宏立 1刘峰1
作者信息
- 1. 西安应用光学研究所,微光夜视技术国防科技重点实验室,陕西,西安,710065
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摘要
关键词
近贴聚焦/成像器件/阴极传递/封接/气密性分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
程耀进,徐江涛,徐珂,侯志鹏,师宏立,刘峰..近贴聚焦成像器件光电阴极传递封接工艺研究[J].真空电子技术,2009,(6):60-62,3.
