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退火对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响

王耀华 陈广超 贺琦 李成明 吕反修

材料工程Issue(2):47-51,5.
材料工程Issue(2):47-51,5.

退火对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响

Effect of Annealing on Structure and Optical Properties of Y_2O_3 Thin Films

王耀华 1陈广超 2贺琦 2李成明 2吕反修2

作者信息

  • 1. 北京航空材料研究院,北京,100095
  • 2. 北京科技大学,材料科学与工程学院,北京,100083
  • 折叠

摘要

关键词

ESAVD/氧化钇薄膜/折射系数

Key words

ESAVD/yttrium oxide thin film/refractive index

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

王耀华,陈广超,贺琦,李成明,吕反修..退火对Y_2O_3薄膜结构和光学性能的影响[J].材料工程,2010,(2):47-51,5.

材料工程

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4381

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