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直流磁控溅射ZnO:Al薄膜过程中氧气浓度的研究

韦新颖 祁康成 袁红梅 张良燕

电子器件2010,Vol.33Issue(1):1-4,4.
电子器件2010,Vol.33Issue(1):1-4,4.

直流磁控溅射ZnO:Al薄膜过程中氧气浓度的研究

The Effect of Oxygen Concentration to DC Magnetron Sputtering ZnO:Al Films

韦新颖 1祁康成 1袁红梅 1张良燕1

作者信息

  • 1. 电子科技大学光电信息学院,成都,610054
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摘要

关键词

直流磁控溅射/ZAO薄膜/电阻率/透过率

分类

通用工业技术

引用本文复制引用

韦新颖,祁康成,袁红梅,张良燕..直流磁控溅射ZnO:Al薄膜过程中氧气浓度的研究[J].电子器件,2010,33(1):1-4,4.

基金项目

四川省应用基础研究项目资助(2009JY0054)"ZnO/a-Si异质结太阳能电池研究" (2009JY0054)

电子器件

OACSTPCD

1005-9490

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