电子器件2010，Vol.33Issue(1)：10-12,3.
金属Ni诱导非晶硅薄膜晶化研究
Study on Nickel-Induced Crystallization of Amorphous Silicon Thin Films
张良艳 1林祖伦 1祁康成 1韦新颖1
作者信息
- 1. 电子科技大学光电信息学院,成都,610054
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摘要
关键词
金属诱导晶化/非晶硅薄膜/多晶硅薄膜分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
张良艳,林祖伦,祁康成,韦新颖..金属Ni诱导非晶硅薄膜晶化研究[J].电子器件,2010,33(1):10-12,3.
