无机材料学报2010，Vol.25Issue(4)：391-395,5.DOI:10.3724/SP.J.1077.2010.00391
激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究
High-speed Deposition of Oriented TiN_x Films by Laser Metal-organic Chemical Vapor Deposition
摘要
关键词
TiN_x薄膜/快速生长/取向/激光化学气相沉积(LCVD)Key words
TiN_x films/high-speed deposition/orientation/laser chemical vapor deposition (LCVD)引用本文复制引用
公衍生,涂溶,後藤孝..激光化学气相沉积快速生长高取向TiN_x薄膜的研究[J].无机材料学报,2010,25(4):391-395,5.基金项目
中央高校基本科研业务费专项基金 （）
