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Si/SiNx多层膜能带结构的理论研究

徐明 魏屹 何贤模 芦伟

四川师范大学学报(自然科学版)2010,Vol.33Issue(4):545-548,封2,5.
四川师范大学学报(自然科学版)2010,Vol.33Issue(4):545-548,封2,5.DOI:10.3969/j.issn.1001-8395.2010.04.031

Si/SiNx多层膜能带结构的理论研究

Theoretic Study on Band Structure of Si/SiNx Multilayer Film

徐明 1魏屹 1何贤模 1芦伟1

作者信息

  • 1. 四川师范大学,物理与电子工程学院&固体物理研究所,四川,成都,610066
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摘要

关键词

K-P模型/多层膜/能带结构/量子限制效应

分类

数理科学

引用本文复制引用

徐明,魏屹,何贤模,芦伟..Si/SiNx多层膜能带结构的理论研究[J].四川师范大学学报(自然科学版),2010,33(4):545-548,封2,5.

基金项目

教育部留学回国人员科研启动项目(教外司留[2007]1108)和四川省青年科技基金(08ZQ026-025)资助项目 (教外司留[2007]1108)

四川师范大学学报(自然科学版)

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-8395

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