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立方氮化硼薄膜中的氧杂质

杨杭生 邱发敏 聂安民

无机材料学报2010,Vol.25Issue(7):748-752,5.
无机材料学报2010,Vol.25Issue(7):748-752,5.DOI:10.3724/SP.J.1077.2010.00748

立方氮化硼薄膜中的氧杂质

Oxygen Impurity in Cubic Boron Nitride Thin Films Prepared by Plasma-enhanced Chemical Vapor Deposition

杨杭生 1邱发敏 1聂安民1

作者信息

  • 1. 浙江大学,材料科学与工程学系,硅材料国家重点实验室,杭州310027
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摘要

关键词

立方氮化硼薄膜/等离子体增强化学气相生长/红外光谱/氧杂质

分类

化学化工

引用本文复制引用

杨杭生,邱发敏,聂安民..立方氮化硼薄膜中的氧杂质[J].无机材料学报,2010,25(7):748-752,5.

基金项目

国家自然科学基金(50772096) (50772096)

无机材料学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-324X

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