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HfO2栅介质薄膜的结构和介电性质研究

程学瑞 戚泽明 张国斌 李亭亭 贺博 尹民

无机材料学报2010，Vol.25Issue(5)：468-472,5.
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无机材料学报2010，Vol.25Issue(5)：468-472,5.DOI:10.3724/SP.J.1077.2010.00468

HfO2栅介质薄膜的结构和介电性质研究

Structure and Dielectric Properties of HfO2 Thin Films

程学瑞 1戚泽明 2张国斌 3李亭亭 2贺博 3尹民2

作者信息

  • 1. 中国科学技术大学,物理系,合肥,230026
  • 2. 中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,合肥,230029
  • 3. 中国科学技术大学,核科学技术学院,合肥,230029
  • 折叠

摘要

关键词

HfO2薄膜/高介电常数栅介质/脉冲激光沉积/声子

分类

数理科学

引用本文复制引用

程学瑞,戚泽明,张国斌,李亭亭,贺博,尹民..HfO2栅介质薄膜的结构和介电性质研究[J].无机材料学报,2010,25(5):468-472,5.

基金项目

国家自然科学基金(10974191) （10974191）

无机材料学报

OA北大核心CSCDCSTPCDSCI

1000-324X

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