物理学报2010，Vol.59Issue(5)：3499-3503,5.
N掺杂SiO2纳米薄膜的制备及其磁性
Preparation and magnetism of the N doped SiO2 thin film
摘要
关键词
N掺杂SiO2薄膜/射频磁控反应溅射/界面磁性/基底温度引用本文复制引用
周鸿娟,甄聪棉,张永进,赵翠莲,马丽,侯登录..N掺杂SiO2纳米薄膜的制备及其磁性[J].物理学报,2010,59(5):3499-3503,5.基金项目
国家自然科学基金(批准号:10804026和10774037)和河北省自然科学基金(批准号:E2007000280)资助的课题. （批准号:10804026和10774037）
