人工晶体学报2010，Vol.39Issue(4)：972-976,5.
溅射功率对直流磁控溅射法沉积TGZO薄膜性能的影响
Effect of Sputtering Power on Properties of Ti-Ga Co-doped Zinc Oxide Films Deposited by DC Magnetron Sputtering Method
摘要
关键词
TGZO薄膜/透明导电薄膜/溅射功率/磁控溅射分类
信息技术与安全科学引用本文复制引用
史晓菲,郭美霞,刘汉法,王新峰..溅射功率对直流磁控溅射法沉积TGZO薄膜性能的影响[J].人工晶体学报,2010,39(4):972-976,5.基金项目
山东省自然科学基金(No.ZR2009GL015) （No.ZR2009GL015）
