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非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体刻蚀化学气相沉积金刚石膜

谭必松 马志斌 沈武林 吴振辉

强激光与粒子束2010,Vol.22Issue(8):1887-1890,4.
强激光与粒子束2010,Vol.22Issue(8):1887-1890,4.DOI:10.3788/HPLPB201002208.1887

非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体刻蚀化学气相沉积金刚石膜

Non-symmetric magnetic mirror field ECR oxygen plasma etching CVD diamond films

谭必松 1马志斌 1沈武林 1吴振辉1

作者信息

  • 1. 武汉工程大学,材料科学与工程学院,等离子体化学与新材料湖北省重点实验室,武汉,430073
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摘要

关键词

非对称磁镜场/电子回旋共振/氧等离子体/刻蚀/化学气相沉积

分类

化学化工

引用本文复制引用

谭必松,马志斌,沈武林,吴振辉..非对称磁镜场电子回旋共振氧等离子体刻蚀化学气相沉积金刚石膜[J].强激光与粒子束,2010,22(8):1887-1890,4.

基金项目

国家自然科学基金项目(10875093) (10875093)

强激光与粒子束

OA北大核心CSCDCSTPCD

1001-4322

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